經過全歐范圍內招標，赫爾姆霍茨能源材料柏林中心(HZB)最終于5月底選擇了萊寶光學中心的兩款A600V7系列沉積系統。這兩款沉積系統是要供應給薄膜技術中心以及柏林光伏納米技術中心（PVcomB）。

光伏系統中薄膜技術的成功很大程度上取決于是否可以將相應的實驗室研究進展高效的轉移到工業生產體系當中，柏林光伏納米技術中心（PVcomB）鼓勵通過基礎研究與工業研發的結合，實現技術的轉換。同時，基礎研究工作要能夠為每一個環節和分析步驟提供備選方案。

萊寶光學中心的A600V7系列光伏濺射沉積設備可以滿足那些具有超前意識客戶嚴格的要求，那些客戶對于薄膜組件未來的發展以及國家最先進的銅銦鎵硒薄膜硅技術，包括非晶硅和晶體硅技術具有超前的意識。濺射系統主要用于銅銦鎵硒薄膜的各種接觸層和前體層的鍍膜，之后用于基板，如玻璃基板。

此次授予萊寶光學中心的合同的決定性因素在于，該濺射設備很容易與現有的建筑和基礎設施相結合。A600V7 濺射系統具備了成熟的技術以及萊寶光學在光伏應用領域多年的經驗足以滿足柏林光伏納米技術中心（PVcomB）的要求。另外一個比較重要的因素是其在組建集成以及未來升級方面的靈活性。而且，由于較低的操作運營和維護成本， A600V7具有很高性價比。與其他一些研發系統相比，A600V7的吞吐量要高的多，因為其可以同時對兩個基板進行覆膜，工作效率高并可以簡單的應用于工業生產線。