世紀新能源網消息：近日，經過深圳市捷佳偉創新能源裝備股份有限公司研發團隊的不懈努力，在捷佳偉創的管式PECVD設備上進行背面鈍化技術的硅片少子壽命在傳統工藝的基礎上提高了5倍，這證明捷佳偉創的背面鍍膜鈍化已經成熟，這項進步填補了國產設備背面鍍膜鈍化技術的空白。

背面鍍膜鈍化技術是以不同的成膜方式在硅片的背面形成鈍化層的工藝技術，此工藝一直被德國的Roth&Rau鍍膜設備和Centrotherm鍍膜設備所壟斷。在新技術的開發期間，捷佳偉創研發團隊做了大量的文獻研究工作，并且對不同的鈍化層工藝進行了DOE試驗，終于實現了少子壽命的穩定、重復提升，并且與文獻記錄完全相符，這一突破充分證明了捷佳偉創的管式PECVD設備在此技術上已經進入國際領先水平，這是我司裝備制造水平提升的標志，也為越加寒冷的光伏行業帶來了些許暖意。