諾發系統今天宣布導入次世代超紫外線熱力學制程系統SOLA xT，將其應用在先進的45奈米以下的邏輯元件生產，其利用超紫外線的照射來改善前一道制程鍍上的薄膜特性，這一新系統可監控紫外線強度及提供客制化的波長光線組合，因此可將系統延用到多世代。第一套SOLA xT 系統將運送到新加坡的聯華電子晶圓工廠Fab 12i。

多平臺續列式制程（MSSP）結構的SOLA可以獨立控制每一單一平臺的溫度、波長和強度，以提供最佳的產品一致性和效率。這種高度可配置的紫外線處理制程比單波長，單溫固化制程可讓超低介電質薄膜提高額外百分之二十五的硬度。例如，UVTP用來除去致孔劑，以及提高金屬間層的ULK介質膜機械強度，以利于積體元件整合及后續薄膜處理之包裝和化學機械研磨（CMP步驟）。對于另一種使用spin-on介電薄膜的整合制程會在蝕刻，濕式清洗，光阻灰化過程中受損。在這種情況下，UVTP可通過化學鍵重建修復這種損傷。在前端制程，UVTP還可用來對N型金屬氧化物半導體閘道作應變力誘導晶體通道的設備。應變力誘導首先是沉積高拉伸應力的介電薄膜，并隨后將其暴露在紫外線更加大其應變力，進而導致增加了元件的性能。

對于上述的所有應用，監控設備的性能健康度和晶圓的性能的一致性，對提高量產生產效率而言是必需的。為了實現這一目標，新的SOLA xT平臺配置紫外線監測功能和先進的演驛法，以維持對晶圓上元件的性能均勻度和穩定性。客制化的SOLA xT的光學組件對每個四個單一連續性平臺做紫外線導向的最佳化，可達到晶片內部的最佳一致性成果。在連續式多平臺系統架構下，可確保每個晶圓通過相同的通道統計出單一性能分布，相對于競爭對手平臺具有多達4個或6個不同晶圓的路徑，因此統計出晶圓有著許多不同的性能分布。

諾發系統PECVD產品業務部高級副總裁凱文詹寧斯說：「新SOLA xT是為了滿足市場所需成熟的UVTP系統，以適合大批量產的32奈米元件， 可獨立控制溫度、紫外線波長及紫外線強度，使SOLA xT能擴展到下一代有可能推出新材料技術」。

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關于諾發系統SOLAR超紫外線熱處理系統
諾發公司SOLAR超紫外線熱處理系統（UVTP）是用于沉積低介電常數薄膜后的處理以提高機械和電氣性能。它也被用于前段制程，以提高氮化矽薄膜高強度應力來改善NMOS元件的性能。連續式多平臺處理架構的SOLA平臺同時能提供系卓越的晶圓上均勻性, 晶圓到晶圓均勻性和重復性以及量產的高生產力。