三菱公司利用三接面電池結構以達到全光譜吸收效果，目前正在開發階段。公司稱5mm x 5mm的硅片在實驗室試驗中的轉換效率達到了14.8％。它需要對每一層的薄膜沉積進行高質量處理，第一層吸收短波，第三層的吸收長波。織構制造工藝也被應用于透明電極以優化光限制。

三菱電機稱，將繼續其三聯點硅片的研發工作，以進一步提高其轉換效率。此工作將側重于改善硅片的結構，材料以及加工。