東芝三菱電機產業系統可在非真空工藝下形成太陽能電池透明導電膜的裝置“TMmist”已開始銷售。該裝置可削減設置面積、提高太陽能電池的轉換效率及降低制造成本等。預計2014年度會獲得約10億日元，2015年度會獲得約20億日元的訂單。

圖1：應用于CIGS太陽能電池生產線

TMmist采用霧化CVD法，就是將成膜材料的溶液利用超聲波霧化后，令其在基板上進行分解和反應形成薄膜。因不會像濺鍍設備那樣會對基板造成等離子損傷，所以有望提高太陽能電池的發電效率和品質。

圖2：研發裝置的外觀

另外，其還有成膜速度快的特點。在制造氧化鋅透明導電膜時，成膜速度可達650nm/分。而原來的方法如蒸鍍法，成膜速度只有數nm/分、濺鍍設備約為200nm/分。由成膜速度的提高，制造裝置的設置面積可削減約30％。